南京原磊納米材料有限公司
南京原磊納米材料有限公司由具有近20年先進(jìn)集成電路制造設(shè)備、工藝研發(fā)經(jīng)驗(yàn)的專業(yè)領(lǐng)軍人創(chuàng)建，致力于成為高端國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商。公司目前的主要產(chǎn)品是研發(fā)和量產(chǎn)型ALD設(shè)備，工業(yè)級IC設(shè)備正在開發(fā)中，預(yù)計(jì)2022年進(jìn)入驗(yàn)證環(huán)節(jié)。主要業(yè)務(wù)：原子層沉積（ALD）、原子層刻蝕（ALE）設(shè)備和外延（EPI）高端半導(dǎo)體設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售；針對不同客戶的需求提供一站式的材料工藝解決方案，并提供定制化的材料、器件光電學(xué)性能的優(yōu)化和表征南京原磊納米材料有限公司-由具有近20年先進(jìn)集成電路制造設(shè)備、工藝研發(fā)經(jīng)驗(yàn)的專業(yè)領(lǐng)軍人創(chuàng)建，致力于成為高端國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商。公司目前的主要產(chǎn)品是研發(fā)和量產(chǎn)型ALD設(shè)備，工業(yè)級IC設(shè)備正在開發(fā)中，預(yù)計(jì)2023年進(jìn)入驗(yàn)證環(huán)節(jié)。主要業(yè)務(wù)：原子層沉積（ALD）、原子層刻蝕（ALE）設(shè)備和外延（EPI）高端半導(dǎo)體設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售；針對不同客戶的需求提供一站式的材料工藝解決方案，并提供定制化的材料、器件光電學(xué)性能的優(yōu)化和表征。